三星据悉将采用台积电3纳米工艺为英伟达生产下一代HBM基底裸片

三星计划采用台积电3纳米工艺生产英伟达下一代定制HBM基底裸片，英伟达已要求三家HBM厂商统一采用该工艺保障性能一致，这是三星首次在HBM制造阶段与台积电合作。